院試hub

東大 新領域創成科学研究科 物質系専攻 専門科目 2022年度 院試 過去問 解答例・解説(解説10項目)

解説10項目の分野は力学1項目です。調和振動子、結晶構造、転位などが出ています。解説は2問、途中式と最終答は大問1問ぶんを公開しています。PDFの収録範囲は商品ページで確認できます。資料不足により確定答案を収録していない箇所が1項目あります。各項目に対象の小問と収録範囲を記載しています。問題本文は含みません。

最終更新:

第1問 — 慣性をもつ滑車とばね・拘束条件・減衰振動

慣性をもつ滑車とばね・拘束条件・減衰振動の途中式・最終答をPDFで見る

第2問 — 充電中のコンデンサー・変位電流・面電流の保存

(1) 一枚の帯電円板の近傍の電場

ガウスの法則は ∮E⋅dA=Qin/ε0\oint\bm E\cdot d\bm A=Q_{\mathrm{in}}/\varepsilon_0 である。 面内の対称性から接線成分がなく、上下の電場は逆向き・同じ大きさとなる。 このため閉じた柱の上面と下面の両方が正の電束を持ち、左辺に2が付く。 q0/Aq_0/A は投影面積当たりの全電荷である。 厚みを考えて金属の両面へ分けるなら、一面当たりの電荷密度はその半分であり、金属表面直外の E=σface/ε0E=\sigma_{\mathrm{face}}/\varepsilon_0 とも一致する。

全電荷 q0q_0 を上の面だけへ割り当てて q0/(ε0A)q_0/(\varepsilon_0 A) としない。 また板の中心近傍、∣x0∣,∣z0∣≪R|x_0|,|z_0|\ll R という条件で有限円板の端を無視している。 遠くまで同じ一定電場が続くという式ではなく、十分遠方では有限電荷の電場に変わる。

(2) 二枚の板の内側と外側

静電場の重ね合わせは、各電荷分布が作る電場をベクトルとして足す原理である。 板をまたぐ法線成分の跳びもガウスの法則から Ez(zs+0)−Ez(zs−0)=σ/ε0E_z(z_s+0)-E_z(z_s-0)=\sigma/\varepsilon_0 となり、下の正板で 00 から q1/(ε0A)q_1/(\varepsilon_0 A)、上の負板で再び 00 へ戻る。 外側をゼロ、内側を一定とする解は、これら二つの跳びを満たす。

板間では正板から負板へ、すなわち +z+z 向きである。 「上の板が負だから下向き」と考えると、負電荷へ向くという向きを逆にしてしまう。 二枚なので常に電場を二倍にするのでなく、外側では打消し、内側では加算となることを位置ごとに確かめる。

(3) 充電で増える電場

電流は単位時間に運ばれる電荷で、電荷増加率は板へ入る電流から出る電流を引いて求める。 下板はその端から別の導線へ電流を流していないため、入った電荷が板全体に蓄積する。 上板の電荷は逆符号の −It-It になり、板間の電場は時間とともに上向きに増す。

原題は各時刻で板上の分布が一様になる準静的な模型を与えている。 電荷が中央だけに残る点電荷として扱うのではなく、板間では E=q/(ε0A)E=q/(\varepsilon_0 A) を使う。 II が一定だから電場自体も一定、と取り違えない。 一定なのは電場の時間微分であり、単位は V m−1s−1\mathrm{V\,m^{-1}s^{-1}} になる。

(4) 板間の面を貫く変位電流

変位電流の積分は、電場の変化による項を電流の単位で表したものである。 真空のすき間を電子が実際に板から板へ移動している、という意味ではない。 板間に伝導電流がなくても、磁場を作る Maxwell--Ampere の法則にはこの項が加わる。

面内の Jd\bm J_d は一様だから、半径 rr までに含む値は全面積に対する比 r2/R2r^2/R^2 になる。 小さい円にも導線の全電流 II が通ると置くと、板間で広がる電場の変化を中央の線へ集中させてしまう。 積分の単位は A で、密度 A m−2\mathrm{A\,m^{-2}} に円の面積を掛けたことと一致する。

(5) 板間の磁束密度の向きと大きさ

+z+z 向きの変位電流に右手の親指を向けたとき、指が巻く向きが磁場になる。 x1>0x_1>0 の点では +y+y 向き、x1<0x_1<0 では −y-y 向きなので、ベクトルの成分には符号付きの x1x_1 が入る。 大きさを表す r=∣x1∣r=|x_1| をそのまま yy 成分へ入れると、左右の点で同じ向きになってしまう。

板間の軸上では対称性から B=0\bm B=0 となり、式も r→0r\to0 でゼロになる。 導線の周りの μ0I/(2πr)\mu_0I/(2\pi r) をそのまま板間へ使うと逆に発散し、すき間では電流が面積に広がることを無視する。 半径 rr の円を実際に貫く変位電流を先に求めたことが、この違いを決めている。

(6) 下板より下の面を貫く全電流項

S1S_1 と S2S_2 は半径が同じでも、囲まれる電流の形が異なる。 板間の S1S_1 では面内一様な変位電流の一部、導線が通る S2S_2 では導線の全電流を数える。 導線は太さを無視する線の模型なので、軸を含むどの正の半径の円でも全 II が入る。

S2S_2 の法線はこの小問では +z+z であり、電流と同方向だから正となる。 次問で円柱の底面として扱うときは外向きが −z-z になるため、そこで初めて符号を反転する。 ここで先に −I-I としてしまうと、同じ面積ベクトルを二回反転することになる。

(7) 円柱側面の全電流項

閉曲面の積分へ使う法線は、三面とも外向きに統一する。 底面だけは −z-z なので、(6)の値を負にして足す。 側面の値は、導線から入る電流と、上面を貫く変位電流との差として決まる。 この差が正であることは、中央へ入った電荷の一部が板の外側の領域へ広がることと整合する。

K\bm K の発散がゼロという式は、実際の電荷密度が変わらないという主張ではない。 伝導電流 i\bm i 単独の発散は充電によりゼロでなく、その分を変位電流項が補う。 閉曲面を通る伝導電流だけをゼロにしてしまうと、板への蓄電を失う。 後の小問で、側面を実際に流れる板上の電流を数えて同じ値を確かめる。

(8) 下板の面電荷密度の増加率

板へ流入する全電荷の増加率 II を、板全体の面積で割った量である。 下板は正に充電されるから、この増加率は正になる。 板間電場 Ez=σ/ε0E_z=\sigma/\varepsilon_0 を微分すると、(3)の ∂Ez/∂t=I/(ε0A)\partial E_z/\partial t=I/(\varepsilon_0 A) にも戻る。

σ\sigma は電荷の面密度 C m−2\mathrm{C\,m^{-2}} なので、その時間微分は A m−2\mathrm{A\,m^{-2}} である。 全電流 II と同じ単位の量ではない。 また下板の電荷が一様という条件を使っており、中央の導線から入るからといって電荷密度自体を軸上のデルタ関数にしない。

(9) 板上を広がる面電流の線密度

ここでの j\bm j は、円周の単位長さを横切る電流で、単位は A m−1\mathrm{A\,m^{-1}} である。 三次元の電流密度 i\bm i の A m−2\mathrm{A\,m^{-2}} とは異なり、板の厚み方向を積分した面電流を表す。 電流の一部は途中の板を充電するために使われるので、外向きの全電流 2πrj(r)2\pi rj(r) は rr とともに減る。

r=Rr=R で外側へ逃げる電流はゼロとなり、導線から入った全電流が板の充電へ使われる。 r→0r\to0 では j∼I/(2πr)j\sim I/(2\pi r) と発散するが、これは点状接続を仮定した導線近傍の理想化で、円周全体の電流は有限の II へ近付く。 原点以外の面内発散を計算しても ∇s⋅j=(1/r)d(rj)/dr=−I/(πR2)=−∂σ/∂t\nabla_s\cdot\bm j=(1/r)d(rj)/dr=-I/(\pi R^2)=-\partial\sigma/\partial t となり、局所の保存則を満たす。 単に I/(2πr)I/(2\pi r) とすると、途中で蓄積する電荷を無視することになる。

(10) 側面を通る伝導電流による再確認

薄い板の面電流を三次元密度で書くなら、板の高さ z=−az=-a に集中する i=j δ(z+a)\bm i=\bm j\,\delta(z+a) と表せる。 側面の面積要素 r dφ dzr\,d\varphi\,dz で積分すると、厚み方向のデルタ関数の積分が1になり、円周長 2πr2\pi r が残る。 軸上の導線は円柱の底を通るが、半径 r>0r>0 の側面へは直接出ない。

端の効果を無視した電場は zz 方向なので、側面の半径方向の法線との内積がゼロとなり、側面を通る変位電流項はゼロである。 従ってここで求めた伝導電流だけで(7)の側面の全電流項を再現できる。 面の位置を変えると伝導電流と変位電流の内訳は変わるが、板上で広がる電流も含めて数えれば、Maxwell--Ampere の法則と電荷保存は同時に満たされる。

解答

(1) 一枚の帯電円板の近傍の電場

板の中心近くでは、円板を一様な無限平面とみなす。 板の上下を貫く薄い柱をガウス面にすると、上下で同じ大きさの電場が板から離れる向きに出る。 断面積 SS に対して、ガウスの法則は 2ES=(q0/A)Sε0 2ES=\frac{(q_0/A)S}{\varepsilon_0} となる。z0>0z_0>0 では上向きである。

(2) 二枚の板の内側と外側

下板 z=−az=-a の正電荷 q1q_1 は板から外向き、上板 z=az=a の負電荷 −q1-q_1 は板へ向く電場を作る。 それぞれの大きさは前問と同じく q1/(2ε0A)q_1/(2\varepsilon_0 A) である。 下板より下の P1P_1 では二つが逆向きで打ち消し合い、板間の P2P_2 ではともに上向きに加わる。

(3) 充電で増える電場

導線の電流は +z+z 向きなので、下板へ正電荷が入り、上板から正電荷が出る。 従って下板の正電荷を q(t)q(t) とすれば dq/dt=Idq/dt=I、初め無電荷なので q(t)=Itq(t)=It である。 前問の板間電場を微分する。

(4) 板間の面を貫く変位電流

変位電流密度を Jd=ε0∂E/∂t\bm J_d=\varepsilon_0\partial\bm E/\partial t と定める。 S1S_1 は半径 rr、法線が +z+z の円で、前問のベクトルも +z+z 向きで一様なので

(5) 板間の磁束密度の向きと大きさ

Maxwell--Ampere の法則 ∮C1B⋅dl=μ0∫S1(i+ε0∂E∂t)⋅dA \oint_{C_1}\bm B\cdot d\bm l =\mu_0\int_{S_1}\left(\bm i+\varepsilon_0\frac{\partial\bm E}{\partial t}\right)\cdot d\bm A を使う。 板間には伝導電流がなく、円筒対称性から B=Bφeφ\bm B=B_\varphi\bm e_\varphi で同じ半径では大きさが一定である。 法線 +z+z から定める正の周回方向を反時計回りとすれば 2πrBφ=μ0Ir2/R22\pi r B_\varphi=\mu_0 I r^2/R^2 となる。

(6) 下板より下の面を貫く全電流項

S2S_2 は下板より下にあり、端を無視した近似では電場がゼロなので時間微分もゼロである。 一方、軸上の導線は電流 II を +z+z 向きに流し、半径 r>0r>0 の S2S_2 を貫く。 法線も +z+z と指定されている。

(7) 円柱側面の全電流項

K=i+ε0∂E/∂t\bm K=\bm i+\varepsilon_0\partial\bm E/\partial t と置く。 電荷保存 ∂ρ/∂t+∇⋅i=0\partial\rho/\partial t+\nabla\cdot\bm i=0 とガウスの法則 ε0∇⋅E=ρ\varepsilon_0\nabla\cdot\bm E=\rho から、∇⋅K=0\nabla\cdot\bm K=0 である。 従って閉じた円柱の外向き積分はゼロになる。 上面は S1S_1 の向き、底面は S2S_2 の指定と反対向きなので ∫S0K⋅dA+Ir2R2−I=0. \int_{S_0}\bm K\cdot d\bm A+I\frac{r^2}{R^2}-I=0.

(8) 下板の面電荷密度の増加率

下板の電荷は q(t)=Itq(t)=It、その面内分布は一様なので、σ=q/A\sigma=q/A である。

(9) 板上を広がる面電流の線密度

半径 rr の内側に蓄積する電荷の増加率は、前問より dQ<rdt=πr2∂σ∂t=Ir2R2. \frac{dQ_{<r}}{dt}=\pi r^2\frac{\partial\sigma}{\partial t} =I\frac{r^2}{R^2}. その領域へ導線から II が入り、円周から外向きに 2πrj(r)2\pi r j(r) が出る。 電荷保存 dQ<r/dt=I−2πrj(r)dQ_{<r}/dt=I-2\pi rj(r) を解く。

(10) 側面を通る伝導電流による再確認

円柱側面を横切る伝導電流は、下板の高さで外向きに流れる面電流である。 円周を一周分足すと

最終答

(1) 一枚の帯電円板の近傍の電場

E(P0)=(0,0,q02ε0πR2). \bm E(P_0)=\left(0,0,\frac{q_0}{2\varepsilon_0\pi R^2}\right).

(2) 二枚の板の内側と外側

E(P1)=0,E(P2)=(0,0,q1ε0πR2). \bm E(P_1)=\bm0,\qquad \bm E(P_2)=\left(0,0,\frac{q_1}{\varepsilon_0\pi R^2}\right).

(3) 充電で増える電場

∂E(P2)∂t=(0,0,Iε0πR2). \frac{\partial\bm E(P_2)}{\partial t} =\left(0,0,\frac{I}{\varepsilon_0\pi R^2}\right).

(4) 板間の面を貫く変位電流

∫S1ε0∂E∂t⋅dA=IπR2(πr2)=Ir2R2=Ix12R2. \int_{S_1}\varepsilon_0\frac{\partial\bm E}{\partial t}\cdot d\bm A =\frac{I}{\pi R^2}(\pi r^2) =I\frac{r^2}{R^2}=I\frac{x_1^2}{R^2}.

(5) 板間の磁束密度の向きと大きさ

Bφ=μ0Ir2πR2,B(P2)=(0,μ0Ix12πR2,0). B_\varphi=\frac{\mu_0Ir}{2\pi R^2},\qquad \bm B(P_2)=\left(0,\frac{\mu_0 I x_1}{2\pi R^2},0\right).

(6) 下板より下の面を貫く全電流項

∫S2(i+ε0∂E∂t)⋅dA=I. \int_{S_2}\left(\bm i+\varepsilon_0\frac{\partial\bm E}{\partial t}\right)\cdot d\bm A=I.

(7) 円柱側面の全電流項

∫S0(i+ε0∂E∂t)⋅dA=I(1−r2R2). \int_{S_0}\left(\bm i+\varepsilon_0\frac{\partial\bm E}{\partial t}\right)\cdot d\bm A =I\left(1-\frac{r^2}{R^2}\right).

(8) 下板の面電荷密度の増加率

∂σ∂t=IπR2.\frac{\partial\sigma}{\partial t}=\frac{I}{\pi R^2}.

(9) 板上を広がる面電流の線密度

j(r)=I2πr(1−r2R2),j=j(r)er(0<r≤R). j(r)=\frac{I}{2\pi r}\left(1-\frac{r^2}{R^2}\right),\qquad \bm j=j(r)\bm e_r\quad(0<r\le R).

(10) 側面を通る伝導電流による再確認

∫S0i⋅dA=2πrj(r)=I(1−r2R2). \int_{S_0}\bm i\cdot d\bm A=2\pi rj(r) =I\left(1-\frac{r^2}{R^2}\right).

第3問 — 角運動量1の固有状態・連続測定・磁場中の時間発展

角運動量1の固有状態・連続測定・磁場中の時間発展の途中式・最終答をPDFで見る

第4問 — 光子の分配関数・Planck分布・放射圧

光子の分配関数・Planck分布・放射圧の途中式・最終答をPDFで見る

第5問 — 理想気体の熱機関・相平衡の圧力依存性

理想気体の熱機関・相平衡の圧力依存性の途中式・最終答をPDFで見る

第6問 — 最密充填・層状結晶・結晶場と不対電子

最密充填・層状結晶・結晶場と不対電子の途中式・最終答をPDFで見る

第7問 — 相間移動・脱炭酸・脱水転位・指示薬・環化合成

相間移動・脱炭酸・脱水転位・指示薬・環化合成の途中式・最終答をPDFで見る

第8問 — 酸化物の安定相・球殻拡散と界面反応・鉄鋼の変態

酸化物の安定相・球殻拡散と界面反応・鉄鋼の変態の途中式・最終答をPDFで見る

第9問 — fccの充填率・密度・すべり系と引張軸の回転

fccの充填率・密度・すべり系と引張軸の回転の途中式・最終答をPDFで見る

第10問 — 熱伝導・Wiedemann--Franz則・炉壁厚さの最適化

一部の確定答案なし

(1a)2材料の名前、(1b)その材料名と伝導機構の対応、(1d)図読値に依存するCp/bの数値、(2e)最後の材料名の選択のみ。機構の理論、Wiedemann–Franz定数、読取式、熱収支、最適壁厚、対数指標直線は完成。公式原題物理23ページ・印刷20ページの図1は欠落アイコンで、公式再取得SHAも一致。

公式PDFの図1は空白枠と画像欠落アイコンになっており、材料の点と物性値を読めない。このため、図の材料名や読取値に依存する箇所は推測しない。電子と格子による熱輸送、熱流を決める保存則、壁厚の最適化など、図の数値に依存しない理論と一般式は扱える。本書はこれらの導出を収録し、材料選択の指標を定めたあと、図が得られればどの値や位置を比較するかまで説明している。

PDFの収録範囲と資料制約を確認する

物質系専攻 専門科目の解答・解説PDF

2022〜2026年度(5年度) · ¥2,880

解答PDFの商品ページへ

年度別の解答例(5年度)

  • 2026年度(解説10項目)

    床を滑る二質点剛体の倒れと反発 / 相互誘導コイルとRC積分による電流計測 / 二準位系の混合角・遷移確率・断熱掃引

  • 2025年度(解説10項目)

    斜面上の剛体運動と慣性モーメント / 導体球殻と誘電体の分極・放電・鏡像法 / 引力デルタ関数による束縛状態と二つの井戸

  • 2024年度(解説10項目)

    逆二乗の中心力による円運動・脱出と束縛軌道 / 球対称な電荷の静電エネルギーと回転による磁場 / 二次元調和振動子の摂動と角運動量による縮退の分裂

  • 2023年度(解説10項目)

    自然長を持つ中心力・二体運動と衝突条件 / 動く導体棒・誘導電流と電池駆動の過渡応答 / 無限深井戸の摂動・準位混合と存在確率

  • 2022年度(このページ・解説10項目)

    慣性をもつ滑車とばね・拘束条件・減衰振動 / 充電中のコンデンサー・変位電流・面電流の保存 / 角運動量1の固有状態・連続測定・磁場中の時間発展

2022年度の出題内容

解説10項目

この10問の分野は力学1問です。

大問分野主題解説の小見出し最終答
第1問力学慣性をもつ滑車とばね・拘束条件・減衰振動—あり
第2問—充電中のコンデンサー・変位電流・面電流の保存—あり
第3問—角運動量1の固有状態・連続測定・磁場中の時間発展—あり
第4問—光子の分配関数・Planck分布・放射圧—あり
第5問—理想気体の熱機関・相平衡の圧力依存性—あり
第6問—最密充填・層状結晶・結晶場と不対電子—あり
第7問—相間移動・脱炭酸・脱水転位・指示薬・環化合成—あり
第8問—酸化物の安定相・球殻拡散と界面反応・鉄鋼の変態—あり
第9問—fccの充填率・密度・すべり系と引張軸の回転—あり
第10問—熱伝導・Wiedemann--Franz則・炉壁厚さの最適化—一部の確定答案なし

同じテーマを出した他大学・他年度

13テーマ

2022年度は8問に13テーマが出ています。

テーマこの年度全体の出題実績他大学の直近出題
調和振動子第1問・第4問16大学・116問
結晶構造第6問・第8問9大学・53問
転位第7問・第9問7大学・50問
固有値・固有ベクトル第3問25大学・555問
剛体の回転運動第1問16大学・106問
分配関数第4問16大学・92問
静電場第2問16大学・83問
ハミルトン形式第3問15大学・74問
固有振動数と振動系第1問16大学・72問
波動関数第9問15大学・40問
ヒルベルト空間第3問12大学・34問
状態図・相変態第8問9大学・30問
応力・ひずみ第1問6大学・15問

東京大学の公式過去問

公開年度範囲
2022〜2026年度(入学年度・直近5回)
公式の解答例
解答例の掲載なし
院試hubの最終確認
2026-10-23
東京大学の公式過去問PDF